gaas – -Translation – Keybot Dictionary

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  CNRS-CRHEA | Page Adri...  
Achievements of electrically pumped half-VCSEL structures in the GaAs (Photonics and Nanostructures Laboratory - Marcoussis)
Réalisations de structures demi-VCSEL pompés électriquement dans la filière GaAs (Laboratoire de Photonique et Nanostructures – Marcoussis)
  CNRS-CRHEA | Industrial...  
OMMIC is a supplier of MMIC circuits, a foundry and supplier of epitaxial layers based on III-V materials (GaAs, GaN and InP). As a leader in advanced technologies, OMMIC provides its customers with state-of-the-art performance for telecommunications, space and defense applications.
OMMIC est un fournisseur de circuits MMIC, une fonderie et fournisseur de couches épitaxiées basés sur des matériaux III-V (GaAs, GaN et InP). En tant que leader des technologies de pointe, OMMIC fournit à ses clients des performances de pointe pour les applications de télécommunications, spatiales et de défense. Les installations de conception et de fabrication d'OMMIC sont basées près de Paris, en France.
  CNRS-CRHEA | Nano  
Most of the previous experiments were conducted at low temperatures because, even though strong coupling can be achieved up to room temperature in GaAs and CdTe systems, their low excitonic stability greatly limits their applications at ambient temperature and / or high density.
La plupart des expériences précédentes ont été menées à basse température car, même si le couplage fort peut être obtenu jusqu’à température ambiante dans les systèmes GaAs et CdTe, leur faible stabilité excitonique limite fortement leurs applications à température ambiante et/ou sous forte densité de particules. Pour y remédier, il faut développer des matériaux à grande force de liaison excitonique, comme le GaN et le ZnO, qui sont les matériaux de choix au CRHEA.
  CNRS-CRHEA | Awards rec...  
During the 19th MBE International Conference in Montpellier (4-9/09/2016), Jean Massies has been awarded the Al Cho Award for his entire career and his pioneering work on Molecular Jets Epitaxy (MJE) GaAs, GaN and metal layers.
Lors de la 19ème conférence internationale MBE à Montpellier (4-9/09/2016), Jean Massies a été récompensé par le prix Al Cho pour l’ensemble de sa carrière et son travail précurseur sur l'Epitaxie par Jets Moléculaires (EJM) de GaAs, de GaN et de couches métalliques.
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⋄ 60-GHz high power performance In0.35Al0.65As/In0.35Ga0.65As metamorphic HEMTs on GaAs
Electron. Lett., 39 (7), 626-628, (2003) - Papier régulier
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⋄ Fmax of 490 GHz metamorphic In0.52 Al0.48As/In0.53Ga0.47As HEMTs on GaAs substrate
Electron. Lett., 38 N°8, 389, (2002) - Papier régulier
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Growth by epitaxy under molecular jets of InGaAsN / GaAs quantum heterostructures
Croissance par épitaxie sous jets moléculaires d'hétérostructures quantiques InGaAsN/GaAs
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⋄ Influence of carrier localization on the performance of MBE grown GaInNAs/GaAs QW light emitting diodes and laser diodes
⋄ 1.1 eV (Ga,In)(N,As) solar cells grown by molecular beam epitaxy : properties and effects of annealing
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⋄ (Ga,In)(N,As)/GaAs quantum wells grown by molecular beam epitaxy for above 1.3 µm low threshold lasers
⋄ Surface morphology of AlN and size dispersion of GaN quantum dots
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⋄ Room temperature performance of low threshold 1.34-1.44 µm GaInNAs/GaAs quantum-well lasers grown by molecular beam epitaxy
⋄ Impact of N on the lasing characteristics of GaInNAs/GaAs quantum well lasers from 1.29 to 1.52 µm
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⋄ Analysis of the room temperature performance of 1.3-1.52 µm GaInNAs/GaAs LDs grown by MBE
⋄ Influence of carrier localization on the performance of MBE grown GaInNAs/GaAs QW light emitting diodes and laser diodes
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⋄ 1.5 µm luminescence from InAs/GaxIn1-xNyAs1-y quantum dots grown on GaAs substrate
⋄ Optimum indium composition for (Ga,In)’(N,As) /GaAs quantum wells emitting beyond 1.5µm
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⋄ Impact of N on the lasing characteristics of GaInNAs/GaAs quantum well lasers from 1.29 to 1.52 µm
⋄ AlGaN/GaN high electron mobility transistor grown by molecular beam epitaxy on Si(110): comparisons with Si(111) and Si(001)
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⋄ Growth and in situ annealing conditions for long-wavelength (Ga, In)(N, As)/GaAs lasers
⋄ Light-ion beam analysis for microelectronic applications
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⋄ Optimum indium composition for (Ga,In)’(N,As) /GaAs quantum wells emitting beyond 1.5µm
⋄ Long wavelength emitting InAs/Ga0.85In0.15Nas Quantum Dots on GaAs substrate
  CNRS-CRHEA | Page Benj...  
⋄ Long wavelength emitting InAs/Ga0.85In0.15Nas Quantum Dots on GaAs substrate
⋄ Performance improvement of 1.52 µm (Ga,In)(N,As)/GaAs quantum well
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⋄ Investigation of the P-As substitution at GaAs/GaInP interfaces by photoluminescence under pressure
⋄ Potentialities of GaN-based microcanivities grown on silicon substrates
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⋄ Infrared detectors based on InGaAsN/GaAs intersubband transitions
⋄ Demonstration of AlGaN/GaN High-Electron-Mobility Transistors Grown by Molecular Beam Epitaxy on Si(110)
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⋄ Structural and morphological characterization of ZnO films grown on GaAs substrates by MOCVD
⋄ Nanoscale determination of surface orientation and electrostatic properties of ZnO thin films
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⋄ Performance improvement of 1.52 µm (Ga,In)(N,As)/GaAs quantum well
⋄ Inhomogeneous broadening of AlGaN/GaN quantum wells
  CNRS-CRHEA | Page Benj...  
⋄ Analysis of the characteristic temperatures of (Ga,In)(N,As)/GaAs laser diodes
⋄ Signature of monolayer and bilayer fluctuations in the width of (Al,Ga)N/GaN quantum wells
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⋄ GaInNAs/GaAs quantum wells grown by molecular-beam epitaxy emitting above 1.5 mm
⋄ Annealing effects on the crystal structure of GaInNAs quantum wells with large in and N content grown by molecular beam epitaxy
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⋄ Long-wavelength GaInNAs/GaAs quantum-well heterostructures grown by solid-source molecular-beam epitaxy
⋄ In situ imaging of threading dislocation terminations at the surface of GaN(0001) epitaxially grown on Si(111)
  CNRS-CRHEA | Page Jean...  
⋄ Blue-shift mechanisms in annealed GaInNAs/GaAs quantum wells
⋄ Investigation of Non-Radiative Processes in InAs/(Ga,In)(N,As) Quantum Dots
  CNRS-CRHEA | Page Jean...  
Influence of growth conditions on the structural quality and surface morphology of InAlAs graded ramps on GaAs: application to metamorphic HEMTs.
Influence des conditions de croissance sur la qualité structurale et la morphologie de surface de rampes à composition graduelle InAlAs sur GaAs : application aux HEMTs métamorphiques.
  CNRS-CRHEA | Page Jean...  
⋄ Influence of MBE growth conditions on the quality of InAlAs/InGaAs metamorphic HEMTs on GaAs
⋄ GaInNAs/GaAs quantum wells grown by molecular-beam epitaxy emitting above 1.5 mm
  CNRS-CRHEA | History  
However, the oil crisis has gone away, the solar ceases to be a priority in the 90s. In addition, tandem cells based GaAs do not meet terrestrial needs because they are too expensive, and the space market remains quite limited.
Cependant, la crise pétrolière s’étant éloignée, le solaire cesse d’être une priorité dans les années 90. En outre, les cellules tandem à base de GaAs ne répondent pas aux besoins terrestres car trop coûteuses, et le marché spatial reste assez limité. Le CNRS réoriente donc son activité vers le milieu des années 90 et le laboratoire se lance dans l’exploration des nouveaux matériaux semi-conducteurs, dits à large bande interdite. Alors que GaAs à une bande interdite de 1.4 eV correspondant à l’infrarouge proche et bien adaptée au solaire et aux télécommunications, d’autres matériaux comme GaN, ZnSe et SiC ont des bandes interdites de 3-3.5 eV, bien adaptées pour l’émission dans le proche UV et le visible, et pour des transistors de forte puissance. Le laboratoire en profite pour changer de nom en 1992 et devient le CRHEA, Centre de Recherches sur l’HétéroEpitaxie et ses Applications. Derrière ce changement de thématique, le laboratoire conserve son expertise de base, qui est l’épitaxie, c’est-à-dire la croissance cristalline de couches minces sur un substrat, le plus souvent de nature différente des couches, d’où l’appellation HétéroEpitaxie.
  CNRS-CRHEA | History  
However, the oil crisis has gone away, the solar ceases to be a priority in the 90s. In addition, tandem cells based GaAs do not meet terrestrial needs because they are too expensive, and the space market remains quite limited.
Cependant, la crise pétrolière s’étant éloignée, le solaire cesse d’être une priorité dans les années 90. En outre, les cellules tandem à base de GaAs ne répondent pas aux besoins terrestres car trop coûteuses, et le marché spatial reste assez limité. Le CNRS réoriente donc son activité vers le milieu des années 90 et le laboratoire se lance dans l’exploration des nouveaux matériaux semi-conducteurs, dits à large bande interdite. Alors que GaAs à une bande interdite de 1.4 eV correspondant à l’infrarouge proche et bien adaptée au solaire et aux télécommunications, d’autres matériaux comme GaN, ZnSe et SiC ont des bandes interdites de 3-3.5 eV, bien adaptées pour l’émission dans le proche UV et le visible, et pour des transistors de forte puissance. Le laboratoire en profite pour changer de nom en 1992 et devient le CRHEA, Centre de Recherches sur l’HétéroEpitaxie et ses Applications. Derrière ce changement de thématique, le laboratoire conserve son expertise de base, qui est l’épitaxie, c’est-à-dire la croissance cristalline de couches minces sur un substrat, le plus souvent de nature différente des couches, d’où l’appellation HétéroEpitaxie.