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La spécificité intrinsèque de la diffusion Raman confère à cette plate-forme d'imagerie la capacité de mesurer l'uniformité et la morphologie d'une grande variété de matériaux. Elle permet également une identification rapide de la composition et de la stoechiométrie, tout en fournissant la distribution spatiale des contraintes et du stress. Cette technique a permis la caractérisation de diverses propriétés des verres de chalcogénures, des couches minces de GaAs et de GeSn/Ge/Si, l'identification du nombre de couches de MoS2 et l'analyse des contraintes dans une tranche de silicium recouverte de SiO2.
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