ion – -Translation – Keybot Dictionary

Spacer TTN Translation Network TTN TTN Login Deutsch Français Spacer Help
Source Languages Target Languages
Keybot 36 Results  organic.com.ua
  Facilities  
- Ion microprobe
- Ionska mikroproba
  Laboratories  
It performs basic and interdisciplinary research concerning interactions of ion beams with matter, and develops methods to characterize and modify properties of matter, with emphasis on nanostructure research.
Grupa vodi institutski akceleratorski centar koji se sastoji od 2 Tandem akceleratora i pripadnih eksperimentalnih linija, što je najveće i najsloženije eksperimentalno postrojenje u RH. Istraživanja ove grupe uključuju temeljna i interdisciplinarna istraživanja interakcije ionskih snopova s materijom, te razvoj metoda karakterizacije i modifikacije svojstava materijala s posebnim težištem na istraživanja nanostruktura. Dio aktivnosti vezan je i na primjene metoda analize u biomedicini, okolišu kao i na istraživanja predmeta kultume baštine.
  Laboratory for Ion Beam...  
Welcome to the web pages of the Laboratory for Ion Beam Interactions! Activities of the Laboratory are devoted to the basic research of processes that take place during the passage of fast ions through matter, including the various aspects of applied research.
Dobro došli na web stranice Laboratorija za interakcije ionskih snopova! Glavne aktivnosti Laboratorija posvećene su istraživanjima osnovnih fizikalnih procesa koji se događaju pri interakciji nabijenih čestica i materijala, te primjenama tih procesa za karakterizaciju materijala. Proučavamo i procese koji dovode do modifikacije svojstava tvari, a posebno one na nanometarskim razinama. Glavni eksperimentalni uređaji su 6.0 MV Tandem Van de Graaff i 1.0 MV Tandetron akceleratori koji su opremljeni sa šest eksperimentalnih linija.
  IBA techniques  
The light emitted under ion irradiation originates from electron transitions and recombination processes within the outer electron shells of the sample atoms. The energy levels of these electron shells are affected by the chemical bondings of the atom.
Svjetlost emitirana tijekom ozračivanja ionima potiče od elektronskih prijelaza i rekombinacijskih procesa u vanjskim elektronskim ljuskama atoma mete. Energijski nivoi tih elektronskih ljuski ovise o kemijskim vezama atoma. Tako IL metoda daje informaciju o kemijskoj formi elemenata što se ne može postići ni jednom drugom IBA tehnikom.
  Laboratory for Ion Beam...  
Welcome to the web pages of the Laboratory for Ion Beam Interactions! Activities of the Laboratory are devoted to the basic research of processes that take place during the passage of fast ions through matter, including the various aspects of applied research.
Dobro došli na web stranice Laboratorija za interakcije ionskih snopova! Glavne aktivnosti Laboratorija posvećene su istraživanjima osnovnih fizikalnih procesa koji se događaju pri interakciji nabijenih čestica i materijala, te primjenama tih procesa za karakterizaciju materijala. Proučavamo i procese koji dovode do modifikacije svojstava tvari, a posebno one na nanometarskim razinama. Glavni eksperimentalni uređaji su 6.0 MV Tandem Van de Graaff i 1.0 MV Tandetron akceleratori koji su opremljeni sa šest eksperimentalnih linija.
  Laboratory for Ion Beam...  
Welcome to the web pages of the Laboratory for Ion Beam Interactions! Activities of the Laboratory are devoted to the basic research of processes that take place during the passage of fast ions through matter, including the various aspects of applied research.
Dobro došli na web stranice Laboratorija za interakcije ionskih snopova! Glavne aktivnosti Laboratorija posvećene su istraživanjima osnovnih fizikalnih procesa koji se događaju pri interakciji nabijenih čestica i materijala, te primjenama tih procesa za karakterizaciju materijala. Proučavamo i procese koji dovode do modifikacije svojstava tvari, a posebno one na nanometarskim razinama. Glavni eksperimentalni uređaji su 6.0 MV Tandem Van de Graaff i 1.0 MV Tandetron akceleratori koji su opremljeni sa šest eksperimentalnih linija.
  tandetron  
1 MV High Voltage Engineering Tandetron accelerator is in operation since 2004. Accelerator installation was funded by the IAEA Technical Cooperation project, Ministry of science of Croatia and donations by University of Oxford and University of Uppsala.
1 MV High Voltage Engineering Tandetron akcelerator je u upotrebi od 2004, kada je instaliran sredstvima projekta tehničke suradnje IAEA i Ministarstva znanosti Hrvatske. Ionski izvor je sastavljen na Institutu, a uz pomoć donacija sveučilišta iz Oxforda i Uppsale. Ionski snop iz akceleratora se sustavom magneta dovodi do ekspserimentalnih linija 6.0 MV akceleratora ili na jednu od nezavisnih novih eksperimentalnih linija.
  Vdg  
6 MV High Voltage Engineering EN Tandem is in operations since 1987. Recent upgrades performed were establishment of accelerator computer control in 2004 and installation of new inclined field accelerating tubes in 2006.
6 MV High Voltage Engineering EN Tandem radi od 1987. godine. Uz računalnu kontrolu cijelog akceleratorskog sustava koja je završena 2004. godine, te nakon zamjene akceleratorskih cijevi 2006, acceleratorom se ubrzavaju različiti ionski snopovi s naponima od 0.5 do 6.0 MV. Akcelerator je instaliran na Institutu nakon dugogodišnjeg rada na Rice University, Houston, USA.
  Vdg  
6 MV High Voltage Engineering EN Tandem is in operations since 1987. Recent upgrades performed were establishment of accelerator computer control in 2004 and installation of new inclined field accelerating tubes in 2006.
6 MV High Voltage Engineering EN Tandem radi od 1987. godine. Uz računalnu kontrolu cijelog akceleratorskog sustava koja je završena 2004. godine, te nakon zamjene akceleratorskih cijevi 2006, acceleratorom se ubrzavaju različiti ionski snopovi s naponima od 0.5 do 6.0 MV. Akcelerator je instaliran na Institutu nakon dugogodišnjeg rada na Rice University, Houston, USA.
  IBA techniques  
The light emitted under ion irradiation originates from electron transitions and recombination processes within the outer electron shells of the sample atoms. The energy levels of these electron shells are affected by the chemical bondings of the atom.
Svjetlost emitirana tijekom ozračivanja ionima potiče od elektronskih prijelaza i rekombinacijskih procesa u vanjskim elektronskim ljuskama atoma mete. Energijski nivoi tih elektronskih ljuski ovise o kemijskim vezama atoma. Tako IL metoda daje informaciju o kemijskoj formi elemenata što se ne može postići ni jednom drugom IBA tehnikom.
  Vdg  
- Sputtering ion source is of in-house construction for use with different ions and most frequently for H, Li, C, O, Cl and I beams.
- Rasprašivački ionski izvor (sputtering ion source) napravljen je u laboratoriju i koristi se za dobivanje različitih iona, od lakših iona kao što su vodik i litij, do težih iona kao C, O, Si, Cl, I itd.
  IBA techniques  
IBIC (Ion Beam Induced Charge)
NRA (Nuclear Reaction Analysis)
  Facilities  
Up (Laboratory for Ion Beam Interactions)
Gore (Laboratorij za interakcije ionskih snopova (LIIS))
  Laboratory for Ion Beam...  
Laboratory for Ion Beam Inte...
Laboratorij za interakcije i...
  Laboratories  
Laboratory for ion beam interactions
Laboratorij za interakcije ionskih snopova
  tandetron  
- Accelerator is equipped with direct extraction duoplasmatron ion source which is used for beams of hydrogen and oxygen. Maximum proton energy is 2.0 MeV with maximum currents in the region between 10 and 20 microA.
- Duoplazmatronski ionski izvor s direktnom ekstrakcijom negativnih iona služi za dobivanje snopa vodika i kisika. Maksimalna energija protona je 2.0 MeV uz maksimalnu struju između 10 i 20 mikroampera.
  Laboratories  
Laboratory for Ion Beam Interactions
Laboratorij za interakcije ionskih snopova (LIIS)
  Vdg  
- Alphatross ion source is RF source with rubidium charge exchange channel. It is used for hydrogen and helium ion beams
- Alphatross ionski izvor je radiofrekventi izvor sa izmjenom naboja pomoću rubidija. Ionski izvor služi za dobivanje negativnih iona vodika i helija, što uključuje 3He ione.
  Vdg  
- Alphatross ion source is RF source with rubidium charge exchange channel. It is used for hydrogen and helium ion beams
- Alphatross ionski izvor je radiofrekventi izvor sa izmjenom naboja pomoću rubidija. Ionski izvor služi za dobivanje negativnih iona vodika i helija, što uključuje 3He ione.
  Vdg  
Accelerator is equipped with two ion sources:
Akcelerator je danas opremljen s dva ionska izvora:
  Facilities  
6.0 MV EN Tandem Van de Graaff - electrostatic (0.5 to 6.0 MV) ion accelerator with two ion sources
6.0 MV EN Tandem Van de Graaff - elektrostatski (0.5 do 6.0 MV) akcelerator iona s dva ionska izvora
  Facilities  
1.0 MV Tandetron – electrostatic tandem (0.1 to 1.0 MV) accelerator with ion source
1.0 MV Tandetron - elektrostatski tandem (0.1 do 1.0 MV) akcelerator iona s ionskim izvorom
  tandetron  
- Sputtering ion source is planned to be installed in 2007.
- Rasprašivački ionski izvor će biti instaliran tijekom 2007.
  Facilities  
6.0 MV EN Tandem Van de Graaff - electrostatic (0.5 to 6.0 MV) ion accelerator with two ion sources
6.0 MV EN Tandem Van de Graaff - elektrostatski (0.5 do 6.0 MV) akcelerator iona s dva ionska izvora
  Facilities  
- High resolution PIXE and ion implantation beam line
- Linija za PIXE spektroskopiju visokog razlučivanja i ionsku implantaciju
  linije  
45 deg - Ion microprobe
45 stupnjeva - Ionska mikroproba
  IBA techniques  
There are four main physical processes of importance to PIXE: (i) when a charged particle (proton or heavier ion) enters the material it encounters numerous inelastic collisions by sample atoms; (ii) the energy of the ion along its trajectory decreases according to the specific energy loss (stopping power);
Četiri su glavna fizikalna procesa važna za PIXE : ( i ) ulaskom nabijene čestice ( proton ili teži ion ) u materijal dolazi do mnogobrojnih neelastičnih sudara s atomima materijala ; ( ii ) energija iona smanjuje se prolaskom kroz materijal zbog specifičnog gubitka energije ( zaustavna moć , stopping power ); ( iii ) od mnogobrojnih atoma materijala mete koji ostaju ionizirani prolaskom iona , karakteristične X - zrake emitiraju se s vjerojatnošću danom veličinom koja se naziva udarni presjek za produkciju X - zraka ; ( iv ) konačno , X - zrake se atenuiraju na svom putu iz materijala (u detektor).
  IBA techniques  
There are four main physical processes of importance to PIXE: (i) when a charged particle (proton or heavier ion) enters the material it encounters numerous inelastic collisions by sample atoms; (ii) the energy of the ion along its trajectory decreases according to the specific energy loss (stopping power);
Četiri su glavna fizikalna procesa važna za PIXE : ( i ) ulaskom nabijene čestice ( proton ili teži ion ) u materijal dolazi do mnogobrojnih neelastičnih sudara s atomima materijala ; ( ii ) energija iona smanjuje se prolaskom kroz materijal zbog specifičnog gubitka energije ( zaustavna moć , stopping power ); ( iii ) od mnogobrojnih atoma materijala mete koji ostaju ionizirani prolaskom iona , karakteristične X - zrake emitiraju se s vjerojatnošću danom veličinom koja se naziva udarni presjek za produkciju X - zraka ; ( iv ) konačno , X - zrake se atenuiraju na svom putu iz materijala (u detektor).