rf – Traduction – Dictionnaire Keybot

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Keybot 3 Résultats  www.ub.edu
  GES-UB  
ATC ORION 8 HV sputtering system with three 3" targets in confocal configuration, RF biassing of the substrate and heater ut to 800ºC.
Equipo de pulverización catòdica magnetrón ATC ORION 8 HV con tres cabezales de 3" y geometría confocal, polarización del substrato con RF y calefactor de hasta 800ºC.
Equip de polvorització catòdica magnetró ATC ORION 8 HV amb tres capçals de 3" i geometria confocal, polarització del substrat amb RF i calefactor de fins a 800ºC.
  GES-UB  
; Roldán, R. ; Nos, O. ; Frigeri, P. ; Asensi, J.M.; Bertomeu, J. Title: Influence of RF power on the properties of sputtered ZnO:Al thin films Journal: Physica Status Solidi A-Applications and Materials Science
Id. GREC: 574337 Año: 2010 Autores: Antony, A.; Carreras, P.; Keitzl, T.; Roldán, R.; Nos, O.; Frigeri, P.; Asensi, J.M.; Bertomeu, J. Título: Influence of RF power on the properties of sputtered ZnO:Al thin films Revista: Physica Status Solidi A-Applications and Materials Science
Id. GREC: 574337 Any: 2010 Autors: Antony, A.; Carreras, P.; Keitzl, T.; Roldán, R.; Nos, O.; Frigeri, P.; Asensi, J.M.; Bertomeu, J. Títol: Influence of RF power on the properties of sputtered ZnO:Al thin films Revista: Physica Status Solidi A-Applications and Materials Science
  Universitat de Barcelona  
These result from the application of deposition techniques under vacuum, such as plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), DC and RF magnetron sputtering, and techniques based on ion beams, such as processing by ionic bombardment and sputtering assisted by ion beam.
El Grupo de Física e Ingeniería de Materiales Amorfos y Nanoestructuras (FEMAN) centra su actividad en la producción y caracterización de materiales amorfos y sub-cristalinos en capa delgada, en polvo nanométrico y capas nanoestructuradas resultantes de la aplicación de técnicas de depósito en vacío, como son el depósito químico en fase vapor por plasma (PECVD), la pulverización catódica DC y RF magnetrón, y las técnicas basadas en haces iónicos como los tratamientos por bombardeo iónico y la pulverización asistida por haz iónico. El objetivo de atención preferente es adquirir una experiencia basada en la investigación experimental de materiales tales como cerámicas avanzadas nanoestructuradas, recubrimientos duros, membranas de ultrafiltración, óxidos dieléctricos, materiales electrocrómicos, recubrimientos ópticos y conductores iónicos, los cuales presentan un gran interés en diversas aplicaciones en los campos de la Mecánica, Óptica y Electrónica, en Nanociencia y Nanotecnología de materiales. Los materiales nanoestucturados más estudiados por el Grupo son: el silicio, el carbono y el carbono tipo diamante, también se han estudiado los compuestos binarios: carburo de silicio, nitruro y oxinitruro de silicio, nitruro de boro y las aleaciones carbono-nitrógeno y los compuestos ternarios como el boro-carbono-nitrógeno. También se han estudiado diversos óxidos de metales de transición (W, Ta, Ni, V, Mo) para posibles aplicaciones a sensores y a electrocromismo. Últimamente, se han realizado muchos estudios sobre sistemas multicapa de dimensiones nanométricas con el fin de estudiar sus propiedades físicas y estructurales. Entre les técnicas de caracterización más utilizadas, están las estructurales y composicionales, como TEM, SEM, HRTEM, SIMS, XPS, XRD, FTIR, Raman, PL, EA, SAED, AFM; las técnicas de caracterización óptica y optoelectrónica, como transmitancia óptica, elipsometría UV-VIS, elipsometría de transformada de Fourier en el IR, análisis espectral multicanal (OMA) y diversas técnicas de caracterización, como medidas de conductividad eléctrica y efecto Hall, espectroscopía de impedancia, medidas de conductividad iónica, cronoamperometría y voltametría. Las actividades del Grupo en el campo de los materiales nanoestucturados se extienden también hacia la diagnosis de plasmas de baja temperatura utilizados para el depósito de estos materiales, como la sonda de Langmuir, espectrometría de masas cuadrupolar, espectroscopía de emisión óptica de plasmas,