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Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Stempel oder der Maske aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel/Maske und Substrat zu erzeugen. Es ist ratsam auch im Falle einer Abstandsbelichtung die Maske vorzubehandeln. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Haften des Hybridpolymers am Stempel/Maske entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel für Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan, CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).
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