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  FAQ | micro resist tech...  
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It is advisable to pre-treat the lithography mask, even if only a proximity lithography process is performed. The formed anti-sticking layer (ASL) prevents defects caused by sticking of the Hybrid Polymers on the mould/stamp.
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Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Stempel oder der Maske aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel/Maske und Substrat zu erzeugen. Es ist ratsam auch im Falle einer Abstandsbelichtung die Maske vorzubehandeln. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Haften des Hybridpolymers am Stempel/Maske entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel für Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan, CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).
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We strongly recommend to apply a release agent on the imprint mould in order to generate a high adhesion contrast between mould and substrate. The formed anti-sticking layer (ASL) prevents defects caused by sticking of the nanoimprint polymer on the mould.
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Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Prägestempel aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel und Substrat zu erzeugen. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Kleben des Prägematerials am Stempel entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel für Stempel aus Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan, CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).