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Keybot 2 Results  www.isodomus.com
  FAQ | micro resist tech...  
We strongly recommend to apply a release agent on the imprint mould in order to generate a high adhesion contrast between mould and substrate. The formed anti-sticking layer (ASL) prevents defects caused by sticking of the nanoimprint polymer on the mould.
Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Prägestempel aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel und Substrat zu erzeugen. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Kleben des Prägematerials am Stempel entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel für Stempel aus Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan, CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).
  FAQ | micro resist tech...  
It is advisable to pre-treat the lithography mask, even if only a proximity lithography process is performed. The formed anti-sticking layer (ASL) prevents defects caused by sticking of the Hybrid Polymers on the mould/stamp.
Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Stempel oder der Maske aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel/Maske und Substrat zu erzeugen. Es ist ratsam auch im Falle einer Abstandsbelichtung die Maske vorzubehandeln. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Haften des Hybridpolymers am Stempel/Maske entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel für Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan, CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).