gaz – -Translation – Keybot Dictionary

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IMS est un fournisseur reconnu de fours et d'équipements de dégraissage sous vide avec plus de 2000 installations dans le monde entier, c'est aussi un leader dans la cémentation sous vide basée sur la technologie brevetée utilisant du gaz acétylène.
IMS ist ein führender Zulieferer von Vakuumöfen und Vakuum-Entfettungsanlagen mit mehr als 2000 Installationen weltweit sowie führend in der Technologie des Vakuumcarburierens mit Acetylen.
  Glossaire  
Dépôt chimique en phase vapeur. Les atomes métalliques sont exclusivement issus de phases gazeuses, véhiculés par des molécules complexes. L’azote est souvent utilisé comme gaz réactif. La température du substrat est généralement comprise entre 800 et 1050 °C.
Chemische Abscheidung aus der Gasphase (Chemical Vapor Deposition). Der Prozess beruht auf Spaltung von Gasen. Metallatome werden normalerweise von komplexen Molekülen getragen. Reaktive Elemente wie N2 werden in der Gasphase hinzugefügt. Die Substrattemperatur bewegt sich typischerweise zwischen 800 und 1050 °C.
  PVD  
Le Dépôt Physique en phase Vapeur (PVD) est un procédé de revêtements de dépôts métalliques durs à partie de vapeur métallique ionisée. En réagissant avec certains gaz, cette vapeur va former une couche mince de composition déterminée sur le substrat.
Die Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD = Physical Vapor Deposition) ist eine Methode zur Herstellung von metallbasierten, harten Beschichtungen mit Hilfe von teilweise ionisiertem Metalldampf. Dieser reagiert mit spezifischen Gasen und bildet dann auf dem Substrat eine dünne Schicht mit einer definierten chemischen Zusammensetzung. Die gebräuchlichsten Methoden sind hierfür die Kathodenzerstäubung (Sputtering) und der kathodische Lichtbogen. Beim Sputtern wird der Dampf durch die Bombardierung eines Metalltargets mit energiegeladenen Edelgasionen gebildet. Das Arcverfahren verwendet repetitive Lichtbogenentladungen im Vakuum, um das Metall zu verdampfen. Alle PVD Prozesse finden im Hochvakuum statt.
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Un bon exemple d'utilisation du Tribobond™ 46 est celui des composants pour de recirculation des gaz d'échappement (vanne EGR) ces systèmes fonctionnent à des températures élevées allant jusqu'à 600 °C.
Ein gutes Beispiel für die Anwendung von Tribobond™ 46 sind Komponenten für Systeme für die Abgasrückführung, welche bei Temperaturen von bis zu 600 °C betrieben werden.
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  Glossaire  
La matière est transportée sous forme de vapeur à partir d'une cible sur la pièce à revêtir. L’azote est souvent utilisé comme gaz réactif. La température de dépôt est généralement comprise entre la température ambiante et 550 °C.
Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (Physical Vapor Deposition). Material wird von einem Target verdampft und zum Produkt transportiert. Reaktive Elemente wie N2 werden oft in der Gasphase hinzugefügt. Die Beschichtungstemperatur bewegt sich zwischen Raumtemperatur und 550 °C.
  CVD  
Le Dépôt Chimique en phase Vapeur (CVD), est le procédé de dépôt par évaporation chimique, qui permet d’obtenir des couches faiblement contrainte du fait d’une réaction chimique induite thermiquement. Le matériau du revêtement est apporté dans l’enceinte sous la forme d’un gaz précurseur.
Die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition = CVD) ist eine Methode zur Herstellung von eigenspannungsarmen Beschichtungen mittels thermisch herbeigeführten, chemischen Reaktionen. Die Präkursoren für die Beschichtung werden verdampft und der Beschichtungszone im Gaszustand zugeführt. Das Gas wird dann entweder zersetzt oder reagiert mit zusätzlichen Präkursoren und lagert sich anschließend als Dünnschicht auf dem Substrat ab. Die Präkursoren werden während des Prozesses kontinuierlich zugeführt und anfallende Nebenprodukte abgeführt. Der CVD Prozess kann im Vakuum oder unter Atmosphärendruck betrieben werden.
  PVD  
Le Dépôt Physique en phase Vapeur (PVD) est un procédé de revêtements de dépôts métalliques durs à partie de vapeur métallique ionisée. En réagissant avec certains gaz, cette vapeur va former une couche mince de composition déterminée sur le substrat.
Die Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD = Physical Vapor Deposition) ist eine Methode zur Herstellung von metallbasierten, harten Beschichtungen mit Hilfe von teilweise ionisiertem Metalldampf. Dieser reagiert mit spezifischen Gasen und bildet dann auf dem Substrat eine dünne Schicht mit einer definierten chemischen Zusammensetzung. Die gebräuchlichsten Methoden sind hierfür die Kathodenzerstäubung (Sputtering) und der kathodische Lichtbogen. Beim Sputtern wird der Dampf durch die Bombardierung eines Metalltargets mit energiegeladenen Edelgasionen gebildet. Das Arcverfahren verwendet repetitive Lichtbogenentladungen im Vakuum, um das Metall zu verdampfen. Alle PVD Prozesse finden im Hochvakuum statt.
  CVA  
Les revêtements peuvent également être dopés avec des éléments permettant l’amélioration des performances tels que Cr, Si, Hf, Zr, etc. La plupart des applications des technologies CVA visent à la production de couches d'accrochage sur les éléments de la section chaude des turbines à gaz et des moteurs à réaction.
Bernex™ Aluvap CVA-Anlagen wurden speziell entwickelt für das Aufbringen von Schutzschichten gegen Heissgaskorrosion und Hochtemperatur-Oxidation. CVA (Chemical Vapour Aluminizing) ist eine Variante der CVD-Technologie. Dabei wird im Diffusionsverfahren zusätzliches Aluminium in das Substrat eingebracht und bildet dort intermetallische Verbindungen, z.B. Nickelaluminide. Die Schichten können mit leistungserweiternden Elementen wie Cr, Si, Hf, Zr usw. dotiert werden. CVA-Schutzschichten werden im Allgemeinen als Haftvermittler auf den Teilen der Heisszone von Gasturbinen und Strahltriebwerken eingesetzt. CVA ist eine umweltfreundliche Alternative zur konventionellen Erstellung von haftvermittelnden Schichten. Ausserdem ist CVA eine der wenigen Methoden überhaupt zur Beschichtung der Innenwände von Tragflächen.