|
De silicalaag is een van de essentiële elementen in de gecombineerde vochtbarrière. De lagen worden aangebracht op een ondergrond van ruwe folie, waarop vooral de laag aluminiumoxide maar moeilijk aangroeit. Het silica is juist glad, met hoogteverschillen van maar vijf nanometer. Dat zorgt voor een stabiele ondergrond voor de ultra-dunne laag aluminiumoxide, die op zijn beurt weer microporiën in het silica afsluit. Direct werken op de polymere ondergrond zou tot tien keer meer processtappen vragen, wat niet past bij de snelheid van het commerciële productieproces waar de onderzoekers op in willen haken. Hindrik de Vries over het belang van de gecombineerde vochtbarrière: "Door deze combinatie van technieken kunnen we werken met een veel snellere plasmadepositie en veel minder cycli van atoomlaagdepositie." Dat maakt de productie van zonnecellen goedkoper.
|